多晶硅是微電子行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、光伏行業(yè)的基礎(chǔ)材料，在多晶硅生產(chǎn)過程中，還原爐鐘罩表面上會(huì)沉積一定厚度的多晶硅副產(chǎn)物、硅粉等，在下一爐生產(chǎn)時(shí)會(huì)影響還原爐鐘罩的反射效率、產(chǎn)品質(zhì)量，所以多晶硅棒生長(zhǎng)完成并從還原爐內(nèi)拆除完之后，需要對(duì)還原爐鐘罩內(nèi)壁進(jìn)行清洗烘干，保證其內(nèi)部的干燥潔凈。

在國(guó)內(nèi)多晶硅廠家生產(chǎn)初期，還原爐鐘罩清洗的主要方式是人工清洗，將還原爐鐘罩放到固定位置后，清洗人員配好清洗液，穿戴好全套的防護(hù)用品后，用高壓水槍噴射到內(nèi)壁上對(duì)附著物依次進(jìn)行純水清洗和清洗液清洗，對(duì)部分清洗不干凈的部位用酒精擦拭，再用高溫壓縮空氣進(jìn)行烘干。

由于每一個(gè)生產(chǎn)周期結(jié)束后均需要對(duì)還原爐鐘罩進(jìn)行清洗，為保證多晶硅產(chǎn)品的品質(zhì)，對(duì)還原爐鐘罩內(nèi)表面的潔凈要求十分苛刻，而對(duì)于大型還原爐鐘罩來說，采用人工清洗存在清洗不干凈、清洗的一致性也難以保證、浪費(fèi)人力的缺陷，且人工配堿和噴洗不安全，稍有不慎堿液容易濺到身上造成傷害，如何減少人工參與，實(shí)現(xiàn)更安全、環(huán)保的清洗方式成為多晶硅還原爐鐘罩內(nèi)部清洗的難題。

德高潔多晶硅還原爐鐘罩自動(dòng)化清洗系統(tǒng)，由高壓熱水清洗系統(tǒng)、熱風(fēng)凈化烘干系統(tǒng)、控制系統(tǒng)等組成，系統(tǒng)操作簡(jiǎn)單，自動(dòng)化程度高，整個(gè)清洗工藝包含：還原爐鐘罩到位→預(yù)清洗→清洗劑(堿液)清洗→漂洗→高壓純水沖洗→凈化熱空氣干燥→常溫干燥→鐘罩吊走，全程僅需人工輔助作業(yè)，解決傳統(tǒng)人工清洗存在不安全，不環(huán)保，清洗效果差，自動(dòng)化程度低，效率不高的缺陷。
 
系統(tǒng)采用密閉式高壓水射流清洗系統(tǒng)，清洗時(shí)三維清洗噴頭由高壓熱水動(dòng)力裝置射出高壓水流作為驅(qū)動(dòng)動(dòng)力，對(duì)鐘罩表面形成360度網(wǎng)狀噴射表面，三維旋轉(zhuǎn)噴頭自由升降，因此可以全面的對(duì)鐘罩進(jìn)行噴射清洗，清洗時(shí)用專用清洗劑等為主要清洗液，用純水(去離子水或叫脫鹽水)漂洗，最后用高純水沖洗完成清洗過程，能夠保證清洗的一致性和均勻性。

全密閉式清洗烘干方式使清洗安全可靠，不污染環(huán)境，保護(hù)人身健康不受危害，清洗后用經(jīng)過三級(jí)凈化(10萬級(jí))的純凈空氣，梯級(jí)加熱，保證烘干完的鐘罩不再結(jié)露，可直接進(jìn)入生產(chǎn)作業(yè)，有效提高自動(dòng)化程度和生產(chǎn)效率。

洗滌后的含酸或堿液廢水、廢渣，排放到需方指定處，由需方自行處理，配排污水(池、槽)溝；清洗和烘干產(chǎn)生的廢氣做室外排空排放。系統(tǒng)采用PLC+觸摸屏柔性自動(dòng)控制系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)對(duì)還原爐鐘罩的自動(dòng)清洗和烘干同時(shí)具有半自動(dòng)或手動(dòng)功能，可以在一套系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)多種型號(hào)還原爐鐘罩的清洗烘干。
 
德高潔是一家專業(yè)清潔環(huán)保設(shè)備供應(yīng)商，在環(huán)保除塵、高壓清洗機(jī)、凈化成套裝備、工業(yè)設(shè)備清潔領(lǐng)域已積累了近三十年的業(yè)內(nèi)寶貴經(jīng)驗(yàn)，公司擁有20余人研發(fā)團(tuán)隊(duì)，長(zhǎng)期服務(wù)于國(guó)企、軍工、外資、上市公司等500強(qiáng)企業(yè)，針對(duì)多晶硅還原爐鐘罩的清洗，德高潔可根據(jù)使用方不同還原爐鐘罩、車間廠房的情況，能源條件不同，提供個(gè)性化設(shè)計(jì)，目前，德高潔在多晶硅還原爐清洗行業(yè)已擁有國(guó)內(nèi)90%的用戶，為多晶硅行業(yè)提供了上百套還原爐清洗系統(tǒng)，并在北京、上海、深圳、成都、西安、武漢均設(shè)有分公司及辦事處，服務(wù)體系網(wǎng)絡(luò)健全，零配件充足。